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• “Estructuración de materiales avanzados mediante láseres ultrarrápidos para aplicaciones en fotónica, sensado y bio-actuación” (PID2020-112770RB-C21). Proyecto coordinado con la Universidad Autónoma de Madrid.
• “Ultrafast Laser Hyperdoping and Texturing of Silicon for Advanced Photovoltaic Materials” (TED2021-130894B-C22). Proyecto coordinado con la Universidad Complutense de Madrid.

Formación deseada:

– Grado en Física, Ciencia de Materiales, Óptica o Ingeniería de Materiales o equivalentes
– Máster en Física, Ciencia de Materiales o equivalentes

Competencias deseadas:

– Habilidades e interés por el trabajo experimental con láseres.
– Conocimientos previos sobre interacción radiación-materia.
– Experiencia previa en caracterización de materiales (microscopia, espectroscopia, AFM, etc).
– Capacidad de comunicación oral y escrita en castellano e inglés.

Tipo del contrato:

Jornada completa y con una vinculación mínima de 12 meses.

Fecha prevista de inicio:

1 de Septiembre 2023.

Salario estimado por año:

25.530 € brutos/año en 14 pagas

Información y contacto:

Prof. Jan Siegel: j.siegel@io.cfmac.csic.es
Dr. Mario García Lechuga: mario.garcia.lechuga@csic.es

Artículos recientes del grupo relacionados con la temática de la oferta:

– R. Ariza, M Alvarez-Alegria, G Costas, L Tribaldo, AR Gonzalez-Elipe, J. Siegel, J. Solis “Multiscale ultrafast laser texturing of marble for reduced surface wetting” Applied Surface Science 577, 151850 (2022)
– Y. Fuentes-Edfuf, M. Garcia-Lechuga, J. Solis, and J. Siegel “Ultrafast Electron Dynamics and Optical Interference Tomography of Laser Excited Steel” Laser Photonics Rev. 2200511 (2022)
– M. Garcia-Lechuga, N. Casquero, A. Wang, D. Grojo, and J. Siegel “Deep Silicon Amorphization Induced by Femtosecond Laser Pulses up to the Mid-Infrared” Advanced Optical Materials 2100400 (2021)

Equipamiento disponible:

Fuentes de laser pulsado en régimen de femtosegundos y nanosegundos.
Sistemas de nanoestructuración mediante escritura directa por láser.
Sistema de nanoestructuración mediante escritura de patrones interferenciales por láser.
Sistema de microscopia óptica de tipo excitación-muestro con resolución temporal de 100 femtosegundos.
Microscopio óptico de alta resolución.
Microscopio de fuerza atómica (AFM). Elipsómetro espectroscópico.
Espectrofotómetro. Sistema de fotoluminiscencia en el visible e infrarrojo.